微晶硅薄膜生长过程的可视化观测系统及测量方法

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专利号CN104122209B
申请日2014-07-25
专利类型: 未知
发明人刘*冉
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刘欢

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基本信息

微晶硅薄膜生长过程的可视化观测系统及测量方法
申请号 CN201410359091.8 分类号
申请日期 2014-07-25 有效期
公开日期 2017-02-15 公开号 CN104122209B
发明人/设计人 刘*冉 权利人 南**学
专利类型 未知 十象顾问 刘欢 联系TA

摘要介绍

本发明公开了一种为实时观测微晶硅薄膜生长设计的可视化观测系统及测量方法,有效地改善了传统偏振光显微镜进行观测时分辨率较低的缺陷。一种微晶硅薄膜生长过程的可视化观测系统,包括光源、针孔、起偏器、1/4波片、汇聚透镜、分光棱镜、垂直物镜、样品、载物台、检偏器、CCD相机、计算机。本发明有效地改善了传统薄膜厚度检测方法所面临的扫描问题,实现了薄膜的连续动态检测,提高了检测的效率和精度,分辨率高。此外,本发明提供的观测系统结构简单,方法简便易行,便于推广。

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