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专利介绍
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基本信息
一种负性光敏聚酰亚胺及其制备方法
申请号 | CN201410756196.7 | 分类号 | |
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申请日期 | 2014-12-11 | 有效期 | |
公开日期 | 2017-01-18 | 公开号 | CN104371102B |
发明人/设计人 | 肖**飞 | 权利人 | 河*学 |
专利类型 | 未知 | 十象顾问 | 刘欢 联系TA |
摘要介绍
本发明设计一种高分子材料及其制备方法,具体为负性光敏聚酰亚胺及其制备方法。以含有羰基的四羧酸二酐和二胺作为主要原料进行聚合,并以对氨基苯甲酸进行封端,得到分子端部和侧链上含有羧基基团的聚酰胺酸溶液,再对聚酰胺酸大分子中的羧基进行酰氯化,所得产物与含有光敏基团的酚或醇进行反应,经化学亚胺化后得到具有高感光性能的负性光敏聚酰亚胺。该负性光敏聚酰亚胺具有高光敏性,良好的耐热性,在航空航天,微电子等领域有着广泛的应用前景。
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