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专利介绍
平台严控核验 保障专利真实有效
基本信息
一种半导体生产抛光头模具打磨装置
申请号 | CN202122071190.4 | 分类号 | |
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申请日期 | 2021-08-31 | 有效期 | |
公开日期 | 2022-03-22 | 公开号 | CN216097894U |
发明人/设计人 | 林*青 | 权利人 | 林*青 |
专利类型 | 未知 | 十象顾问 | 刘欢 联系TA |
摘要介绍
本实用新型属于半导体模具加工技术领域,尤其为一种半导体生产抛光头模具打磨装置,针对在抛光头长时间使用后容易出现磨损,在进行抛光加工时,容易对半导体造成损伤的问题,现提出如下方案,其包括底板,所述底板的顶部转动安装有支撑轴,支撑轴的顶端固定安装有放置座,放置座的顶部开设有放置槽,底板的顶部固定安装有气缸,气缸的活塞轴上固定焊接有滑板,底板的顶部开设有滑槽,滑板滑动连接在滑槽内,滑板的一侧固定安装有电机,电机的输出轴上固定连接有打磨头,滑板的一侧转动安装有横轴。本实用新型结构设计合理,可以通过转动相反的打磨头与抛光头对抛光头进行打磨,对抛光头的打磨效果好,效率高。
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